会津大学・東京工業大学・キオクシアの三者にて、量子アニーリング・イジングマシンを活用した、共同研究結果が論文として発表されました。
半導体製造の「マスク最適化」の研究に取り組む、会津大学：小平先生、東京工業大学：高橋先生・松井先生、キオクシア：児玉様にお話を伺い、イジングマシンの活用経緯や本研究の意義などをご紹介します。

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